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本发明为一种测微分析天平。包括压力触控组件，光波干涉系统，单片机系统；压力触控组件包括上承板、下板，弹性元件，上承板上远离弹性元件的一端设有托盘架及托盘，在上承板设有刀口槽，下板上正对刀口槽的位置设有平衡架，平衡架的上端设有与刀口槽相适配的刀口，刀口插设在刀口槽内；光波干涉系统包括静片、动片、静脚、动脚、光源、半透半反镜、摄像头；静片固定在下板上，动片的一端固定在静片上形成静脚，动片的另一端通过吊件与上承板相连接并形成动脚；动片的上部设有摄像头，在摄像头与光源之间设有半透半反镜；所述单片机系统包括相互电连接的单片机模块、信息显示模块和键盘输入模块，所述摄像头与单片机模块相连接。
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